
微粒学®三星II +는완전자동표면적및기공률분석기로서높은정확도로빠른고처리량분석을제공합니다。3이스테이션장치는일반적인품질관리분석의속도와효율성을높이면서도연구요구사항을충족하는정확도,분해능및데이터축소기능을갖추고있습니다。이기기는분석방법의다기능성과데이터축소를결합하여응용분야의요구에맞춤화된분석을가능하게합니다。
특징및장점:
- 三星II +는3개의시료포트가동시에독립적으로작동하는효율적인고처리량시스템을제공합니다。추가처리량을위해한대의컴퓨터로최대4개의장치를운용할수있습니다。
- 표준질소시스템으로0.01 m2 / g의작은표면적을측정할수있습니다。크립톤옵션을사용하면표면적측정을0.001 m2 / g까지확장할수있습니다。
- 三星II +는아르곤,이산화탄소및기타비부식성기체(예:부탄,메탄및기타경질탄화수소)를포함한다양한흡착물질을사용한분석을수행할수있습니다。
- 측정,계산또는수동으로자유공간을입력할수있어특수한유형의시료를수용하거나필요시속도에중점을두는데최대한의유연성을제공합니다。
- 등온재킷은시료와포화압력(Po)튜브의길이전체에대해일정한열프로파일을보장합니다。
- 微粒学의MicroActive데이터축소및제어소프트웨어를통해사용자는표면적과기공률을대화식으로계산할수있습니다。그래픽인터페이스에서사용자가선택할수있는데이터범위를통해打赌,t -플롯,朗缪尔및DFT해석을직접모델링할수있습니다。
- 향상된소프트웨어기능을통해기체흡착과수은압입중첩및고급NLDFT에의한포괄적인기공크기분포데이터를얻을수있습니다。
사양
압력측정
절대 | 범위:0 ~ 950毫米汞柱 분해능:0.05毫米汞柱이내 선형성:<스팬의±0.1% |
상대 | P / Po범위:0 ~ 1.0 P / Po 분해능:< 10-4 |
분석
비표면적 | 0.01米2/ g부터,질소장치 0.001米2/ g부터,크립톤장치 |
총표면적 | 0.1米2질부터,소장치 0.01米2부터,크립톤장치 |
기공부피 | 4×10-6cm³/ g부터 |
듀어지속시간 | 최대40시간 |
기체소비량 | 포트당최대300厘米³STP |
흡착성기체
질소장치 | 질소;아르곤,이산화탄소또는기타비부식성기체;부탄,메탄또는기타경질탄화수소증기。산소도적절한진공펌프와함께사용가능。 |
크립톤장치 | 질소장치와동일하며더낮은압력에서크립톤표면적분석수행가능 |
三星II +는가연성또는독성기체를사용할경우환기가잘되는환경에서작동해야합니다。
매니폴드온도
정확도 | ±0.25°C |
분해능 | 0.1°C이내 |
진공시스템
질소장치 | 20 x 10-3mmHg이상을수용해야하며,오일기반또는오일프리진공펌프사용 |
크립톤장치 | 1×10-3mmHg를수용해야하며,오일프리진공펌프필요 |
작동환경
온도 | 10 ~ 35°C(50 ~ 95°F)작동 0 ~ 50°C(32 ~ 122°F),비작동 |
습도 | 상대습도20 ~ 80%(비응축) |
실내또는실외사용 | 실내전용 고도:최대2000米 목표환경오염도:2개 |
물리적사양
높이 | 74厘米(29) |
너비 | 40厘米(16英寸) |
깊이 | 51厘米(20) |
무게 | 37公斤(82磅) |
전기적사양
전압 | 100 ~ 240 v |
전력 | 최대150 va |
주파수 | 50/60Hz |
과전압범주 | 2 |
기술
응용분야
적층제조
표면적은소결공정의속도및생성물의특성을조사하는데중요한도구입니다。표면이거칠거나내부가다공질인입자는일반적으로더큰비표면적을가집니다。따라서표면적은다른성분입자및/또는주변환경과반응할수있는시료표면의양을나타냅니다。
카본블랙
타이어의마모수명,견인력및성능은생산에사용되는카본블랙의표면적과관련이있습니다。인공뼈의기공률을조절한의료용이식물은실제뼈를모방할수있으므로신체가이를수용하고주위에서조직이자랄수있습니다。
흡착재
표면적,총기공부피및기공크기분포에대한지식은산업용흡착재의품질관리및분리공정개발에중요합니다。표면적및기공률특성은흡착재의선택성에영향을미칩니다。
촉매
촉매의활성표면적과기공구조는생산율에영향을미칩니다。기공크기를제한하면원하는크기의분자만출입할수있으므로선택적촉매가되어원하는생성물이주로만들어집니다。
나노튜브
나노튜브표면적과미세기공률은물질의수소저장용량을예측하는데사용됩니다。
활성탄
표면적과기공률은자동차의가솔린증기회,수도장작업의용매회수또는폐수처리의오염관리를위해좁은범위내에서최적화되어야합니다。
세라믹
표면적과기공률은그린웨어의경화및결합에영향을주며완제품의강도,질감,외관및밀도에영향을미칩니다。유약및글래스프릿의표면적은수축,균열및유말림현상에영향을줍니다。
도장및코팅
안료또는충전재의표면적은광택,질감,색상,채도,밝기,고형분함량및필름점착특성에영향을미칩니다。인쇄매체코팅의기공률은기공률이블리스터링,잉크수리성및잉크저항성에영향을주는오프셋인쇄에서중요합니다。
배터리및연료전지
구성요소의표면적과기공률을최적화하면저장용량과에너지생성이개선됩니다。
지구과학
기공률은구조가포함할수있는유체의양과이를추출하는데난이도와관계가있기때문에지하수수문학및석유탐사에서중요합니다。
제약
표면적과기공률은의약품의정,제가공,혼합,타정및포장뿐만아니라유효사용기간,용출률및생체이용률에중요한역할을합니다。
액세서리
액세서리견적요청
시료전처리장치
시료전처리장치
微粒学는표면적및기공부피분석을위한다양한시료전처리장치를제공합니다。이들장치는유동기체및/또는진공을열과결합하여시료의표면과기공에있는수증기,흡착된기체와같은대기오염물질을제거합니다。표면적및기공부피분석에서생성된데이터의품질은시료표면의청정도에크게좌우됩니다。微粒学의모든시료전처리장치는,N2, Ar및기타비부식성기체를사용합니다。
FlowPrep™060
FlowPrep™060은시료에열과불활성기체흐름을가합니다。열로인해오염물질이표면에서탈착되고불활성기체흐름이시료관에서오염물질을쓸어냅니다。이장치를사용하면시료물질및용도에가장적합한온도,기체및유속을선택할수있습니다。니들밸브를사용하면유동기체를천천히주입하여시료의유동화를방지할수있습니다。
VacPrep™061
VacPrep™061은오염물질을제거하는두가지방법을제공합니다。즉,유동기체외에도가열및배출을통해시료를전처리하기위해진공을적용하는방식도있습니다。이러한조합을통해재료또는용도에가장적합한전처리방법을선택할수있습니다。VacPrep에는6개의탈기스테이션이있으며6개의스테이션각각에서진공또는기체흐름전처리방식중하나를선택할수있습니다。유동기체또는진공을천천히주입하여시료의유동화를방지할수있도록니들밸브도제공됩니다。
智能VacPrep™067
智能VacPrep™067은진공을사용하여가열및배출을통해시료를전처리하는고급6포트시스템입니다。각포트는독립적으로작동할수있습니다。전처리중인다른시료의처리를방해하지않고탈기포트에시료를추가하거나제거할수있습니다。시료가프로그래밍된모든단계를완료하면탈기가자동으로종료됩니다。
극저온유체이송시스템
극저온유체이송시스템
微粒学극저온유체이송시스템을사용하면액체질소또는액체아르곤을비압축저장듀어에서실험실실험에사용되는작은용기로옮길수있습니다。특수용도를위해추가액세서리가제공됩니다。
소모품
소모품
소프트웨어
향상된소프트웨어기능,데이터축소및기기모니터링
三星II +용MicroActive소프트웨어
三星II +용MicroActive소프트웨어
微粒学의직관적인三星II +용MicroActive제어소프트웨어를통해사용자는등온선데이터를대화식으로평가하고표면적및기공률결과를얻는데필요한시간을줄일수있습니다。결과를보기위해보고서를생성할필요가없습니다。打赌표면적변환플롯과같은계산을쉽게생성하고조정할수있습니다。선택막대를사용하여다양한측정점을빠르고쉽게선택할수있습니다。결과적으로계산에서얻어진값의요약이즉시업데이트됩니다。사용된데이터범위를계산창내에서더욱세분화할수있습니다。
기체흡착과수은압입중첩
기체흡착과수은압입중첩
三星II +용MicroActive소프트웨어에는또한사용자가가스흡착등온선으로부터계산된기공크기분포와수은기공측정법의기공크기분포를중첩할수있는강력한유틸리티가포함되어있습니다。이가져오기기능을통해사용자는하나의사용하기쉬운응용프로그램에서미세기공,메조기공및거대기공분포를빠르게볼수있습니다。
고급NLDFT
고급NLDFT
고급NLDFT모델링을통해사용자는질소및이산화탄소등온선에서수집된정보를결합하여분자크기의기공이존재하는재료(예:탄소슬릿기공)에대한완전한기공크기분포를제공할수있습니다。이방법을통해기공크기분석범위를표준질소분석에비해더작은기공크기까지확장할수있습니다。이는크기제,한연결문제또는매우느린확산으로인해극저온에서N2에접근할수없는일부초미세기공에가二氧化碳접근할수있기때문입니다。